顶立科技公布“一种低压脉冲式供气沉积碳化硅涂层的CVD系统及方法”专利

天眼查APP显示，近日，湖南顶立科技股份有限公司申请的“一种低压脉冲式供气沉积碳化硅涂层的CVD系统及方法”专利公布。 摘要显示，本发明公开了一种低压脉冲式供气沉积碳化硅涂层的CVD系统及方法。所述系统包括炉体、分气盘、供气回路、气氛切换模块、真空缓冲腔和控制单元，该系统利用真空缓冲腔控制炉体的炉腔压力维持在50?200Pa的低压环境，并通过控制系统控制前驱体供气和惰性气体吹扫进行周期性切换，进而实现边界层反应气氛的周期性稳定刷新。该方法通过脉冲供气与吹扫交替运行，实现反应气氛的动态刷新，有效减薄边界层、消除气体滞留，提高反应气体到达基体表面的有效通量，进而显著提高碳化硅涂层的致密性、均匀性和表面质量。因此，本发明解决了传统连续进气CVD工艺中边界层富集、原料浪费及涂层不均匀等问题。